最近，在中国科学院官方网站上发布的一项研究进展表明，该团队开发的新的5nm超高精度激光光刻处理方法后来被解释为对5nm ASML的垄断，相关方也对此做出了回应。
这。
。
根据《财经》杂志的一篇报道，该论文的通讯作者，中国科学院研究员，博士生导师刘谦公开表示，这是一种误解，并且该技术不同于极紫外光刻技术。
根据刘谦的说法，如果可以将超高精度激光平版印刷加工技术用于高精度光罩的制造中，有望提高我国光罩的制造水平，这也对光掩模的制造非常有利。
减小了现有光刻机芯片的线宽。
的。
该技术完全独立于知识产权，其成本可能低于目前的水平，并且具有产业化的前景。
但是，即使该技术已经商业化，要打破荷兰ASML（ASML）在光刻机上的垄断，仍然需要突破许多核心技术，例如透镜的数值孔径和透镜的波长。
光源。
据报道，高端口罩仍然是“卡住脖子”。
中国的技术。
在半导体领域，除了英特尔，三星和台积电的独立制造外，高端掩模主要由Photronics，Dainippon Printing Co.，Ltd.（DNP）和Toppan Printing Co.，Ltd.（Toppan）垄断。
在美国。
根据第三方市场据研究机构远见产业研究所的数据，这三家公司占全球市场份额的82％。
长期以来，该行业一直在尝试另一条技术路线。
例如，中国科学家和普林斯顿大学的周瑜于1995年首次提出了纳米压印技术，但仍无法突破商业化的困境。
当前的现状是，没有哪个国家可以独立制造光刻机。
对于中国来说，要在短时间内突破ASML在极端紫外光刻技术中的垄断几乎是不可能的。
来源：Fast Technology推荐读物：如何在高可靠性领域中选择处理器系统和ADC / DAC？ FPGA在医疗设备中扮演什么角色？添加最强大的eASIC！英特尔能否负担得起xPU的巨额余额？ 21ic独家“耕种收藏” |电子必看公共账户|电子“设计提示”添加管理员微信您和Daniel工程师有什么区别？加入技术交流小组，并与专家面对面见面。
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